蒸着ガス

持続的な研究開発と積極的な市場対応戦略により,
半導体およびディスプレイ製造工程における中核素材である様々な蒸着ガスを生産・販売しています。

  • 六フッ化タングステン WF6view more

    Global No. 1 WF6は, 半導体の製造工程でMetal Contactおよびゲートを形成する用途で使用されます。

  • モノシラン SiH4view more

    韓国で初めて, 唯一, モノシラン(SiH4)を生産販売 SiH4は, 半導体, ディスプレイおよび太陽電池の製造工程でSi絶縁膜, Si反射防止膜を形成するときに使用されます。

  • ジシランSi2H6view more

    Si2H6は, 半導体の微細化工程に使用されるガスで, 薄膜蒸着の際に低温において高速で均一の膜質を形成するための用途で使用されます。

  • ジクロロシランSiH2Cl2view more

    SiH2Cl2は, 半導体の製造工程で窒化膜(SixNy)の蒸着の際に使用されます。

  • モノクロロシラン SiH3Clview more

    SiH3Clは, 半導体およびディスプレイ工程用として使用されるプリカーサの原材料です。

  • その他

    スピーディーに変化するIT市場に適した多様な蒸着用ガスを持続的に追加開発し生産しています。

六フッ化タングステン
WF6
Global No. 1 WF6は, 半導体の製造工程でMetal Contactおよびゲートを形成する用途で使用されます。
モノシラン
SiH4
韓国で初めて, 唯一, モノシラン(SiH4)を生産販売 SiH4は, 半導体, ディスプレイおよび太陽電池の製造工程でSi絶縁膜, Si反射防止膜を形成するときに使用されます。
ジシラン
Si2H6
Si2H6は, 半導体の微細化工程に使用されるガスで, 薄膜蒸着の際に低温において高速で均一の膜質を形成するための用途で使用されます。
ジクロロシラン
SiH2Cl2
SiH2Cl2は, 半導体の製造工程で窒化膜(SixNy)の蒸着の際に使用されます。
モノクロロシラン
SiH3Cl
SiH3Clは, 半導体およびディスプレイ工程用として使用されるプリカーサの原材料です。
その他
スピーディーに変化するIT市場に適した多様な蒸着用ガスを持続的に追加開発し生産しています。