高機能性ウェットケミカル
半導体構造の高度化に伴い、多種多様な薄膜を選択的にエッチング・洗浄できる高機能性ウェットケミカルの重要性が注目されています。なかでも顧客の工程技術に最適化された製品の開発と安定供給が重要で、品目の順次拡充により多様なウェットケミカル・ソリューションを提供していくつもりです。
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高選択比リン酸HSP
3D NANDメモリ半導体の製造に使用されるエッチング液で、
Oxide/Nitride積層構造の中からナイトライド薄膜だけを選択的にエッチングする際に使用されます。