SKレゾナック
会社紹介
SKレゾナックは、日本唱和電工社と共に設立した合作法人で、輸入依存度の高い高難度のエッチングガスを国産化し、韓国の技術自立度を高めながら半導体エッチングガス分野のリーダー企業へと成長しています。
SKレゾナックは、合成工程を基盤とする韓国唯一のCH3F及びHBr生産設備をもとに高純度エッチングガスの安定したサプライチェーンを構築し、お客様のさまざまな需要に応えられるソリューションを提供するため、蓄積された技術力とノウハウを活かして多様なエッチングガスの開発・生産に努めています。
半導体に微細で均一な回路を形成するエッチングガスを国産化して生産・販売しているSKレゾナックは、 蓄積された技術力とノウハウをもとにエッチングガス素材産業を先導する専門プロバイダーを目指して躍進します。
エッチングガスの中でも精密なエッチング能力を持つモノフルオロメタン（CH3F）、六フッ化ブタジエン（C4F6）、ジフルオロメタン（CH2F2）などを生産・販売しており、今後多様なエッチングソリューションを提供するつもりです。
エッチングガスは半導体内部の回路を形成する前に回路が入る空間をエッチングするガスで、3D構造の半導体をより立体的で精密にエッチングする際に使用されます。
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モノフルオロメタンCH3F
CH3Fは3D NANDフラッシュの窒化膜エッチングに使用されるガスで、3D NANDの拡散によりその使用量が増えています。韓国では当社が初めてで唯一の生産・販売メーカーです。
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臭化水素HBr
HBrは半導体のエッチング工程で使用されるガスです。精密・垂直のエッチング能力に優れているため、半導体の高段化に伴って使用量が増加しています。
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六フッ化ブタジエンC4F6
C4F6は微細化されるDRAMの酸化膜の微細加工（エッチング）と3D NANDフラッシュの酸化膜のエッチングにも用いられ、その需要量が急増しています。
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ジフルオロメタンCH2F2
CH2F2はCH3Fと共にNANDフラッシュの窒化膜エッチングに使用されるガスです。最近3D NANDの拡散によりその使用量が増えています。