エッチングガス

最高の技術力をもとに世界のエッチングガス市場を先導しています。

エッチングガスの中でも精密なエッチング能力を持つフルオロメタン(CH3F)、六フッ化ブタジエン(C4F6)、
ジフルオロメタン(CH2F2)を生産・販売しており、今後も様々なエッチングソリューションを提供する予定です。

エッチングガスは、半導体内部の回路形成前に回路が入る空間をエッチングするガスで, 3D構造の半導体をより立体的に精密にエッチングするために使用します。

  • フルオロメタン CH3F

    CH3Fは、3D NAND Flashの窒化膜のエッチングに使用されるガスで, 3D NANDの拡散によりその使用量が増加しています。 韓国では当社が初めて、そして唯一生産・販売しています

  • 六フッ化ブタジエンC4F6

    C4F6は、微細化されるDRAMの酸化膜微細エッチングや3D NAND Flashの酸化膜エッチングにも使用され, その需要量が急増しています。

  • ジフルオロメタン CH2F2

    CH2F2は、CH3FとともにNAND Flashの窒化膜エッチングに使用されるガスです。 最近、3D NANDの拡散によりその使用量が増加しています

  • トリフルオロメタン CHF3

    CHF3は3D NAND Flash窒化膜のエッチングとDRAM窒化膜の微細エッチングに使用されます。

日本の昭和電工社との協業による先進技術の確保により、韓国内の半導体市場に
ハイクオリティのエッチングガスを安定的に供給しています。お客様の要求に先制的に対応し,
絶え間ない研究開発によりエッチングガス市場を先導してまいります。