その他の高純度ガス

需要の増加が予想される高付加価値アイテムについて製造・生産するだけではなく、ソーシング、精製、
ミキシングなどを通してお客様に供給するなど、顧客満足のために最善の努力を尽くしています。

  • クリプトン Kr

    半導体3D NANDの深孔加工のエッチングの際にmomentum gasとして使用されます。

  • 四塩化ケイ素 SiCl4

    ポリシリコンウェハー製造の際にシリコンパウダーと一緒に使用されるガスで、半導体の工程でも蒸着およびエッチングガスとして使用されます。

  • ヘリウム He

    ヘリウムは代表的な不活性ガスであり、産業全般において必要とされ、キャリアガス、パージガス、クーリングおよびリークチェック、雰囲気ガスなど様々な分野で広く使用されています。