SK레조낙
회사소개
SK레조낙은 일본 Resonac 社와 함께 설립한 합작법인으로서, 수입의존도가 높은 고난이도 식각 가스를 국산화하여 국내 기술 자립도를 제고하며 반도체 식각 가스 분야의 선도업체로 성장하고 있습니다.
- Source A, Source B, Source C 투입
- SK레조낙의 경쟁력 (합성,정제(합성공정 기반 국내 유일 생산설비, 단일 제품 생산능력 Global No.1, 검증된 기술과 생산능력 보유)와 충전,분석(축적된 분석 기법과 역량을 통한 품질 안정성, 체계적 재고관리를 통한 공급 안정성))
- 고객사에게 제공합니다.
반도체에 세밀하고 균일한 회로를 형성하는 식각가스를 국산화하여 생산/판매하고 있는 SK레조낙은 축적된 기술과 역량을 기반으로 식각 가스 소재산업을 선도하는 전문 provider로 도약하고자 합니다.
식각가스 중에서도 정밀한 식각 능력을 가지고 있는 모노플루오르메탄(CH3F),
육불화부타디엔(C4F6), 브롬화수소(HBr)
디플루오르메탄(CH2F2) 등을 생산
판매하며, 향후 다양한 식각 Solution을 제공하고자 합니다.
식각가스는 반도체 내부의 회로형성 전 회로가 들어갈 공간을 식각하는 가스로서, 3D 구조의 반도체를 보다 입체적이고 정밀하게 식각하는데 사용됩니다.
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모노플루오르메탄CH3F
CH3F는 3D NAND Flash 의 질화막 식각에 사용되는 가스로 3D NAND 확산에 따라 그 사용량이 증가하고 있습니다. 국내에서는 당사가 최초 및 유일하게 생산 판매하고 있습니다.
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브롬화수소HBr
HBr은 반도체 식각 공정에 사용되는 가스입니다. 정밀/수직 식각 능력이 우수하여 반도체 고단화에 따른 사용량은 증가하고 있습니다.
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육불화부타디엔C4F6
C4F6는 미세화되는 DRAM 의 산화막 미세 식각과 3D NAND Flash 의 산화막 식각에도 사용되어 그 수요량이 급증하고 있습니다.
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디플루오르메탄CH2F2
CH2F2 는 CH3F 와 함께 NAND Flash 의 질화막 식각에 사용되는 가스입니다. 최근 3D NAND 의 확산으로 그 사용량이 증가하고 있습니다.
이사회 중심 경영
SK레조낙은 구성원을 비롯하여 협력사 등 거래 관계에 있는 이해관계자의 인권침해가 발생하지 않도록 구성원이 준수해야 할 방침인 인권정책을 수립했습니다.
이사회 구성
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유신(의장)대표이사- 現 SK레조낙㈜ 대표이사
- 前 SK스페셜티㈜ 경영지원본부장
- 선임: 2025년 02월
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Ohara Yoshinori 사내이사-
現 Resonac Corporation, General Manager
(Electronic Chemicals Business Unit) -
前 SDK, General Manager
(Specialty Gases Department) - 중임: 2026년 03월
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現 Resonac Corporation, General Manager
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김화랑 기타비상무이사- 現 SK머티리얼즈퍼포먼스㈜ 경영지원담당
- 前 SK㈜ 머티리얼즈 변화추진담당
- 선임: 2025년 02월
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Sasaki Toru 사내이사- 現 Resonac Corporation,General Manager (Solfine Department, Electronic Chemicals Business Headquarters)
- 前 Resonac Corporation, General Manager (Solfine Department, Electronic Business Headquarters)
- 중임: 2026년 03월
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신원식 사내이사- 現 SK에코플랜트 머티리얼즈 재무담당
- 前 SK에코플랜트 투자금융팀장
- 선임: 2026년 01월
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Taniguchi Shoichi 감사- 現 Head of Business Management Department, Resonac Corporation (Electronic Chemicals Business Unit, Electronics Business Head Quarters)
- 前 Professinal, Resonac Corporation (HR Business Partner Department of Electronics Business Head Quarters)
- 선임: 2026년 03월