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기타 고순도가스

반도체 3D NAND 및 미세화 공정 확산으로 수요가 증가하는 고부가가치 Item에 대하여
제조 생산 뿐만 아니라 Sourcing, 정제, Mixing 등을 통해 고객사에 공급하고 있습니다.

SK specialty
  • 헬륨He

    헬륨은 대표적인 불활성 Gas로 산업 전반에서 필요로 하며, Carrier Gas, Purge Gas, Cooling 및 Leak Check, 분위기 가스 등 여러 가지 분야에서 널리 사용됩니다.

  • 크립톤Kr

    반도체 3D NAND의 Deep Hole 에칭 시 momentum gas로 사용됩니다.

  • 제논Xe

    반도체 제조공정 중 식각(Etching) 공정에 사용되는 가스로 공기중 포함된 미량의 원소로 Rare gas로 분류되는 비활성 기체입니다.

  • 사염화규소SiCl4

    챔버의 잔류 Flourine Cleaning 및 식각, 실리카 제조를 위한 원재료로 사용됩니다.

  • 사플루오린화규소SiF4

    반도체의 플라즈마 식각 및 이온주입공정에 이용되는 가스입니다.

  • 포스핀PH3

    반도체의 이온주입공정에 이용되고 있는 가스입니다.

  • 아르신AsH3

    반도체의 이온주입공정에 이용되고 있는 가스입니다.