其他高纯气体

为迎合半导体领域3D NAND及微细加工技术的发展趋势, SK Materials不仅制造生产需求较高的高附加值产品, 还向客户公司提供采购, 提纯, 混配等配套服务

  • Kr

    作为一种动力气体(momentum gas), 用于半导体3D NAND的深孔蚀刻。

  • 四氯化硅SiCl4

    在制造多晶硅晶圆时, 常与硅粉一同使用, 其用途是沉积形成和蚀刻。

  • He

    氦是一种典型的非活性气体, 在气体产业工业环节中不可或缺, 被广泛使用在Carrier Gas, Purge Gas, Cooling和 Leak Check 惰性气保护等各种领域。