蚀刻气体

SK Materials基于顶级技术力, 引领着全球蚀刻气体市场。

生产销售用于精密蚀刻的氟甲烷(CH3F), 全氟丁二稀(C4F6), 二氟甲烷(CH2F2), 并计划提供更多种蚀刻工艺的解决方案。

蚀刻气体的用途是在半导体内部形成电路之前蚀刻出电路空间。由于半导体呈三维结构, 蚀刻气体可更加立体, 精密地进行蚀刻。

  • 氟甲烷CH3F

    氟甲烷用于3D NAND闪存的氮化膜蚀刻。随着3D NAND的普及, 其使用量也随之攀升。目前, SK Materials是韩国国内最早且唯一一家氟甲烷生产商。

  • 全氟丁二烯C4F6

    全氟丁二烯主要用于DRAM的氧化膜微细蚀刻和3D NAND闪存的氧化膜蚀刻。最近其需求量也呈剧增趋势。

  • 二氟甲烷CH2F2

    二氟甲烷与氟甲烷一样,也用于3D NAND闪存的氮化膜蚀刻。随着3D NAND的普及, 其使用量也随之攀升。

  • 三氟甲烷CHF3

    CHF3用于 3D NAND Flash 氮化膜蚀刻和DRAM氮化膜细微蚀刻。

SK Materials与日本昭和电工精诚合作, 一直保持着行业内的先进技术, 以此为基础向韩国半导体市场稳定供应高品质蚀刻气体。公司通过积极应对客户需求, 不断研究和开发, 引领着蚀刻气体市场。