沉积气体

通过持续研发和积极开展市场战略, SK Materials生产和销售半导体及显示器制造工艺的核心材料—各种沉积气体。

  • 六氟化钨WF6더보기

    Global No. 1 六氟化钨 (WF6) 在半导体工艺中用于生成Metal Contact(金属接点)及Gate(閘)。

  • 甲硅烷SiH4더보기

    生产销售韩国首款&唯一的甲硅烷产品 甲硅烷在半导体及显示器工艺中用于形成硅绝缘膜, 硅防反射膜。

  • 乙硅烷Si2H6더보기

    乙硅烷用于半导体微细化工程, 在沉积形成薄膜时, 可在低温中快速形成均匀的薄膜。

  • 二氯氢硅SiH2Cl2더보기

    二氯氢硅在半导体制造工艺中用于沉积形成氮化膜(SixNy)。

  • 氯硅烷SiH3Cl더보기

    氯硅烷用于半导体及显示的制造工艺, 是一种前驱体的原材料。

  • 其他

    为积极应付瞬息万变的信息技术市场之需求, SK Materials持续研发和生产多种沉积气体。

六氟化钨
WF6
Global No. 1 六氟化钨 (WF6) 在半导体工艺中用于生成Metal Contact(金属接点)及Gate(閘)。
甲硅烷
SiH4
生产销售韩国首款&唯一的甲硅烷产品 甲硅烷在半导体及显示器工艺中用于形成硅绝缘膜、硅防反射膜。
乙硅烷
Si2H6
乙硅烷用于半导体微细化工程, 在沉积形成薄膜时, 可在低温中快速形成均匀的薄膜。
二氯氢硅
SiH2Cl2
二氯氢硅在半导体制造工艺中用于沉积形成氮化膜(SixNy)。
氯硅烷
SiH3Cl
氯硅烷用于半导体及显示的制造工艺, 是一种前驱体的原材料。
其他
为积极应付瞬息万变的信息技术市场之需求, SK Materials持续研发和生产多种沉积气体。